Васильев, В. Ю. Тонкие слои борофосфоросиликаного стекла в технологии кремниевой микроэлектроники.[Текст] [Текст] : ч.1.осаждение из газовой фазы и свойства слоев стекла / В.Ю.Васильев // Микроэлектроника. - 2004. - Т.3. - №5.-С.334-351.-Библиогр.: с.349-351. - (Технология СБИС)
Кл.слова (ненормированные): Материалы тонкопленочные(с магнитосопротивлением) -- История радиотехники -- Микроэлектроника(история) -- Тонкопленочная технология(контроль процесса травления) |
Котенов, В. А. Комбинирование лазерного фото ЭДС и эллипсометрического микрозондов в дефектоскопии тонких поверхностных слоев и пленок [Текст] / В.А.Котенев // Микроэлектроника. - 2003. - Т.3. - 6.-С.440-447. - (Диагностика микроэлектронных структур)
Кл.слова (ненормированные): Компьютер(в проектировании радиоэлектронных устройств) -- Компьютерное моделирование(в электронике) -- Тонкопленочная технология(контроль процесса травления) |
Мордвинцев, В. М. Методика контроля процесса травления нанометрового слоя диэлектрика in situ путем измерения адмитанса системы [Текст] / Мордвинцев В.М., Шумилова Т.К. // Микроэлектроника. - 1999. - Т.2. - 2.-С.136-147
Кл.слова (ненормированные): Травление нанометрового слоя диэлектрика(контроль процесса) -- Измерение адмитанса системы(контроль процесса травления) -- Диэлектрики in situ(травление нанометрового слоя) -- Тонкопленочная технология(контроль процесса травления) Доп.точки доступа: Шумилова, Т.К. |