Светличный, А. М. Формирование пленок диоксида кремния фотохимическим разложением тетраэтоксисилана [Текст] / А.М.Светличный,В.В.Поляков,Ю.Н.Варзарев // Микроэлектроника. - 2001. - Т.3. - 1.-С.27-31.-Библиогр.:8 назв.
Кл.слова (ненормированные): Пленки диоксида кремния(формирование) -- Тетраэтоксисилан(фотохимическое разложение) -- Микроэлектроника(технологии) Доп.точки доступа: Поляков, В.В. Варзарев, Ю.Н. |