Исследование методов калибровки процессных ОРС моделей VT-5 с переменным порогом чувствительности [Текст] // Микроэлектроника. - 2010. - Т. 39, N 6. - С. 468-480 : ил. - Библиогр.: с. 480(14 назв.)
Кл.слова (ненормированные): СБИС (ПОВЫШЕНИЕ ТЕХНОЛОГИЧНОСТИ) -- ЛИТОГРАФИЯ Аннотация: Рассмотрен один из наиболее распространенных подходов к моделированию сложных литографических систем. |
Комаров, А. О системной среде качества для разработок и производства субмикронных СБИС [Текст] / А.Комаров // CHIP NEWS. - 2006. - N6. - С. 49-52
Кл.слова (ненормированные): Контроль качества в промышленных предприятиях -- Качество полупроводниковых изделий -- Высшее образование российское (в области электроники) -- СБИС (повышение технологичности) |