Главная Упрощенный режим Описание
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


Статьи- результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=ТРАВЛЕНИЕ В ПЛАЗМЕ(ОБЗОР ДЕФЕКТОВ)<.>)
Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2
1.


    Смирнов, А. А.
    Влияние добавок Ar и Heна параметры и состав плазмы [Текст] / А. А. Смирнов, А. М. Ефремов, В. И. Светцов // Микроэлектроника. - 2010. - N 5. - С. 392-400. - Библиогр.: с. 400 (15 назв.)
УДК

Кл.слова (ненормированные):
ПЛАЗМА -- НИЗКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ПЛАЗМА -- ТРАВЛЕНИЕ В ПЛАЗМЕ(ОБЗОР ДЕФЕКТОВ) -- ИНТЕГРАЛЬНЫЕ МИКРОСХЕМЫ
Аннотация: Проведено модельное исследование влияния начального состава смесей.
Доп.точки доступа:
Ефремов, А. М.
Светцов, В. И.


Найти похожие

2.


    Орликовский, А. А.
    Плазменные процессы в микро- и наноэлектронике. Часть 1.Реактивное ионное травление [Текст] / Орликовский А.А. // Микроэлектроника. - 1999. - Т.2. - 5.-С.344-362.-Библиогр.:14 назв.
УДК

Кл.слова (ненормированные):
Кремниевая технология(развитие) -- Интегральные схемы ультрабольшие(тенденции развития технологии) -- Микроэлектроника субмикронная(применение плазмы в новых технологиях) -- Травление реактивное(мониторинг) -- Эффект апертурный -- Травление в плазме(обзор дефектов)

Найти похожие

 
Статистика
за 03.07.2024
Число запросов 136232
Число посетителей 1015
Число заказов 0
© 2006-2022 Поволжский государственный технологический университет, ФГБОУ ВО «ПГТУ».