Главная Упрощенный режим Описание
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


Статьи- результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>A=Снитовский, Ю. П.$<.>)
Общее количество найденных документов : 5
Показаны документы с 1 по 5
1.


    Снитовский, Ю. П.
    Новая технология изготовления мощного биполярного СВЧ транзистора. Физическое моделирование [Текст] / Ю.П.Снитовский,В.В.Нелаев,В.А.Ефремов // Микроэлектроника. - 2007. - Т.3. - 6.-С.465-471.-Библиогр.:13 назв.
УДК

Кл.слова (ненормированные):
Биполярные транзисторы -- Транзисторы биполярные -- Конструирование подложек БИС -- СВЧ-транзисторы(выбор)

Найти похожие

2.


    Снитовский, Ю. П.
    Реконструкция поверхности кремния при очистке и ее влияние на переходное сопротивление контактов Al/ Mo-Si и параметры биполярных СВЧ-транзисторов[Текст] [Текст] / Ю.П.Снитовский // Микроэлектроника. - 2004. - Т.3. - №5.-С.366-371.-Библиогр.: с.370-371. - (Приборы микро- и наноэлектроники)
УДК

Кл.слова (ненормированные):
СВЧ-транзисторы(выбор) -- Кремний(очистка,подлегирование)

Найти похожие

3.


    Сенько, С. Ф.
    Новая технология изготовления системы металлизации СБИС с использованием полиамида [Текст] / С.Ф.Сенько,Ю.П.Снитовский // Микроэлектроника. - 2002. - Т.3. - 3.-С.201-210.-Библиогр.:5 назв. - (Технологические процессы)
УДК

Кл.слова (ненормированные):
Металлизация СБИС(новые технологии) -- СБИС(новые технологии металлизации)
Доп.точки доступа:
Снитовский, Ю.П.


Найти похожие

4.


    Данилюк, А. Л.
    Очистка и подлегирование кремния в плазме BF3 при изготовлении омических контактов [Текст] / Данилюк А.Л., Снитовский Ю.П. // Микроэлектроника. - 2001. - Т.3. - 4.-С.305-311.-Библиогр.:29 назв.
УДК

Кл.слова (ненормированные):
Кремний(очистка,подлегирование) -- Омические контакты(изготовление) -- Контакты омические высоконадежные невыпрямляющие -- Пленки молибдена(нанесение) -- Катодного распыления метод(нанесения пленок) -- Полупроводника и диэлектрика контакт
Доп.точки доступа:
Снитовский, Ю.П.


Найти похожие

5.


    Снитовский, Ю. П.
    Очистка поверхности пластин кремния жидкостным травлением для замкнутой системы изготовления в технологии ИС [Текст] / Снитовский Ю.П. // Микроэлектроника. - 2001. - Т.3. - 3.-С.223-227.-Библиогр.:12 назв.
УДК

Кл.слова (ненормированные):
Интегральные схемы(технология изготовления) -- Очистки пластин кремния(технология) -- Жидкого химического травления метод

Найти похожие

 
Статистика
за 30.06.2024
Число запросов 9729
Число посетителей 367
Число заказов 0
© 2006-2022 Поволжский государственный технологический университет, ФГБОУ ВО «ПГТУ».