Главная Упрощенный режим Описание
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


Статьи- результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
 Найдено в других БД:Книги (1)
Формат представления найденных документов:
полныйинформационный краткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>A=Орликовский, А. А.$<.>)
Общее количество найденных документов : 9
Показаны документы с 1 по 9
1.

Диагностика плазмы геликоного источника с помощью открытого СВЧ-резонатора/Ю.П.Барышев,И.Н.Москалев,И.П.Кориткин и др. // Микроэлектроника, 2002,N Т.3.-С.4.-С.286-291.-Библиогр.:3 назв.
2.

Контактные TiSi2 и барьерные TiN слои для многоуровневой металлизации УБИС/А. Г. Васильев и др. // Микроэлектроника, 2002,N Т.3.-С.1.-С.9-15.-Библиогр.:8 назв.
3.

Орликовский А.А. Диагностика in situ плазменных технологических процессов микроэлектроники : современное состояние и ближайшие перспективы/А.А.Орликовский,К.В.Руденко,Я.И.Суханов // Микроэлектроника, 2001,N Т.3.-С.6.-С.403-433.-Библиогр.:62 назв.
4.

Орликовский А.А. Диагностика in situ плазменных технологических процессов микроэлектроники : современное состояние и ближайшие перспективы. Часть III/Орликовский А.А., Руденко К.В. // Микроэлектроника, 2001,N Т.3.-С.5.-С.323-344.-Библиогр.:44 назв.
5.

Некоторые применения микроволнового источника плотной плазмы в субмикронной технологии кремниевых интегральных схем/С. Н. Аверкин и [др.] // Микроэлектроника, 2001,N Т.3.-С.3.-С.183-188.-Библиогр.:14 назв.
6.

Орликовский А.А. Диагностика in situ плазменных технологических процессов микроэлектроники : современное состояние и ближайшие перспективы. Часть II/А.А.Орликовский,К.В.Руденко,Я.Н.Суханов // Микроэлектроника, 2001,N Т.3.-С.3.-С.163-182.-Библиогр.:29 назв.
7.

Орликовский А.А. Диагностика in situ плазменных технологических процессов микроэлектроники : современное состояние и ближайшие перспективы. Часть 1./Орликовский А.А., Руденко К.В. // Микроэлектроника, 2001,N Т.3.-С.2.-С.85-105.-Библиогр.:26 назв.
8.

Орликовский А.А. Плазменные процессы в микро- и наноэлектронике. Часть 1.Реактивное ионное травление/Орликовский А.А. // Микроэлектроника, 1999,N Т.2.-С.5.-С.344-362.-Библиогр.:14 назв.
9.

Микроволновый широкоапертурный источник плотной плазмы/С.Н.Аверкин,К.А.Валиев,В.В.Кошкин и др. // Микроэлектроника, 1999,N Т.2.-С.6.-С.427-433.-Библиогр.:6 назв.
 
Статистика
за 02.08.2024
Число запросов 67716
Число посетителей 518
Число заказов 0
© 2006-2022 Поволжский государственный технологический университет, ФГБОУ ВО «ПГТУ».