6Ф2.1-08
   В 24


   
    Введение в фотолитографию [Текст] / Ю. С. Боков, В. С. Корсаков, В. П. Лаврищев ; ред. В. П. Лаврищев. - Москва : Энергия, 1977. - 400 с. - 1.47 р.
ГРНТИ

Рубрики: Радиоэлектроника

Кл.слова (ненормированные):
интегральная электроника -- радиоэлектронная аппаратура -- фотолитография
Доп.точки доступа:
Боков, Ю. С.
Корсаков, В. С.
Лаврищев, В. П.
Лаврищев, В. П. \ред.\

Экземпляры всего: 2
аб (1), кнхр (1)
Свободны: аб (1), кнхр (1)


   6Ф2.1-08
   Ф 81


   
    Фотолитография и оптика [Текст] = Fotolitografie und Optik : научное издание / ред.: Я. А. Федотов, Г. Поль. - Москва : Советское радио ; Берлин : Техника, 1974. - 392 с. : ил. - 1.57 р.
ГРНТИ
УДК

Кл.слова (ненормированные):
ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ ЭЛЕКТРОНИКА -- ПЛАНАРНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ -- ОСНОВНЫЕ ЗАКОНЫ ОПТИКИ -- ФОТОШАБЛОНЫ -- КООРДИНАТОГРАФЫ -- ФОТОПОВТОРИТЕЛИ -- ФОТОПОВТОРИТЕЛИ
Доп.точки доступа:
Федотов, Я. А. \ред.\
Поль, Г. \ред.\

Экземпляры всего: 3
аб (2), кнхр (1)
Свободны: аб (2), кнхр (1)


   6П2.151
   К 93


    Курносов, Анатолий Иванович.
    Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем [Текст] : учебное пособие для вузов / А. И. Курносов, В. В. Юдин. - 3-е изд., перераб. и доп. - Москва : Высшая школа, 1986. - 367 с. - Библиогр.: с. 363. - Предм. указ.: с. 364-365. - 1.30 р.
ГРНТИ
УДК
ББК 32.852-06

Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника

Кл.слова (ненормированные):
СВЧ-диапазон -- антимонид галлия -- антимонид индия -- арсенид галлия -- арсенид индия -- германий -- диффузионные структуры -- диэлектрические пленки -- защитные пленки -- имс -- интегральные микросхемы -- интерметаллические соединения -- ионная имплантация -- ионно-плазменное распыление -- конструкции корпусов -- кремний -- лазерные технологии -- нитридные пленки кремния -- полупроводниковые материалы -- полупроводниковые пластины -- полупроводниковые подложки -- пособия для вузов -- р-п-переход -- радиация -- рентгенолитография -- сборка полупроводниковых приборов -- термическое испарение -- тонкие пленки -- фосфид галлия -- фотолитография -- фоторезисторы -- фотошаблоны -- эпитаксиальное наращивание
Аннотация: В книге рассмотрены основные технологические процессы производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.
Доп.точки доступа:
Юдин, Владимир Васильевич

Экземпляры всего: 4
кнхр (1), чз№2 (3)
Свободны: кнхр (1), чз№2 (3)


   621.382
   В 24


    Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий [Текст] : в 2 т. : [учеб. пособие] / под общ. ред. Ю. Н. Коркишко. - М. : БИНОМ. Лаборатория знаний, 2010 - 2011. - (Нанотехнологии).
   Т. 2 : Технологические аспекты / [М. В. Акуленок и др.]. - 2011. - 252 с. : ил. - ISBN 978-5-9963-0336-6 : 391.49 р.
ГРНТИ
УДК

Кл.слова (ненормированные):
НАНОТЕХНОЛОГИЯ -- ТРАВЛЕНИЕ сухое -- ТОНКИЕ ПЛЕНКИ -- СЛОЖНЫй нанорельеф -- эпитаксия кремния -- диэлектрические пленки -- легирование -- литографические процессы -- фотолитография -- легирование -- ИНТЕГРАЛЬНЫЕ МИКРОСХЕМЫ
Доп.точки доступа:
Коркишко, Ю. Н. \ред.\
Акуленок, Марина Викторовна
Андреев, Владимир Михайлович
Громов, Дмитрий Геннадьевич
Зиновьев, Д. В.

Экземпляры всего: 49
абунл (43), чз№2 (5), кнхр (1)
Свободны: абунл (43), чз№2 (3), кнхр (1)