И 22 Ивановский, Геннадий Фомич. Ионно-плазменная обработка материалов [Текст] : научное издание / Г. Ф. Ивановский, В. И. Петров. - Москва : Радио и связь, 1986. - 230 с. : ил. - 1.20 р. Кл.слова (ненормированные): ИОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ МАТЕРИАЛОВ -- ОЧИСТКА ПОВЕРХНОСТЕЙ НАГРЕВА -- ИОННО-ЛУЧЕВАЯ ОБРАБОТКА -- ИОННО-ХИМИЧЕСКАЯ ОБРАБОТКА -- ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ Доп.точки доступа: Петров, Владимир Иванович Экземпляры всего: 2 кнхр (2) Свободны: кнхр (2) |
К 66 Корзо, Виктор Федорович. Пленки из элементоорганических соединений в радиоэлектронике [Текст] : научное издание / В. Ф. Корзо, В. А. Курочкин, В. П. Демин. - Москва : Энергия, 1973. - 192 с. : ил. - 0.54 р.
Кл.слова (ненормированные): НЕОРГАНИЧЕСКИЕ ПЛЕНКИ -- ПИРОЛИТИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИИ -- ТОНКИЕ ПЛЕНКИ -- ПАССИВНЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ МИКРОСХЕМ -- АКТИВНЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ МИКРОСХЕМ -- ПЛЕНКИ МЕТАЛЛОВ -- ПЛЕНКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ -- ПОЛУПРОВОДНИКИ -- ПЛЕНКИ ДИЭЛЕКТРИКОВ -- ДИЭЛЕКТРИКИ -- ПРОВОДЯЩИЕ ПОКРЫТИЯ -- ЗАЩИТНЫЕ ПОКРЫТИЯ -- ИЗОЛЯЦИЯ МИКРОПРИБОРОВ -- ПАССИВАЦИЯ МИКРОПРИБОРОВ -- ГЕРМЕТИЗАЦИЯ МИКРОПРИБОРОВ -- НАНЕСЕНИЕ ПЛЕНОК -- ТЕРМИЧЕСКОЕ ОКИСЛЕНИЕ -- ИСПАРЕНИЕ В ВАКУУМЕ -- КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- АНОДИРОВАНИЕ -- ПЛЕНОЧНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА Доп.точки доступа: Курочкин, Владимир Алексеевич Демин, Виктор Петрович Экземпляры всего: 2 аб (1), кнхр (1) Свободны: аб (1), кнхр (1) |
К 93 Курносов, Анатолий Иванович. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем [Текст] : учебное пособие для вузов / А. И. Курносов, В. В. Юдин. - 3-е изд., перераб. и доп. - Москва : Высшая школа, 1986. - 367 с. - Библиогр.: с. 363. - Предм. указ.: с. 364-365. - 1.30 р.
Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника Кл.слова (ненормированные): СВЧ-диапазон -- антимонид галлия -- антимонид индия -- арсенид галлия -- арсенид индия -- германий -- диффузионные структуры -- диэлектрические пленки -- защитные пленки -- имс -- интегральные микросхемы -- интерметаллические соединения -- ионная имплантация -- ионно-плазменное распыление -- конструкции корпусов -- кремний -- лазерные технологии -- нитридные пленки кремния -- полупроводниковые материалы -- полупроводниковые пластины -- полупроводниковые подложки -- пособия для вузов -- р-п-переход -- радиация -- рентгенолитография -- сборка полупроводниковых приборов -- термическое испарение -- тонкие пленки -- фосфид галлия -- фотолитография -- фоторезисторы -- фотошаблоны -- эпитаксиальное наращивание Аннотация: В книге рассмотрены основные технологические процессы производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Доп.точки доступа: Юдин, Владимир Васильевич Экземпляры всего: 4 кнхр (1), чз№2 (3) Свободны: кнхр (1), чз№2 (3) |
М 31 Маслаковец, Ю. П. Катодное распыление [Текст] / Ю. П. Маслаковец ; под общей редакцией А. Ф. Иоффе, С. Ф. Васильева, Д. З. Будницкого. - Ленинград ; Москва : Государственное технико-теоретическое издательство, 1934. - 57 с. - (Проблемы новейшей физики ; вып. 18). - 0.12 р.
Иоффе, А. Ф. \ред.\ Васильев, С. В. \ред.\ Будницкий \ред.\ Экземпляры всего: 1 кнхр (1) Свободны: кнхр (1) |
П 59 Порошковая металлургия [Текст] : межведомственный сборник. Вып. 4 / МВССО БССР Белорусский политехнический ин-т. - Москва : Высшая школа, 1980. - 112 с. : рис., табл. - (в пер.) : 1.00 р.
Кл.слова (ненормированные): ПРОИЗВОДСТВО -- ИЗМЕЛЬЧЕНИЕ -- РАСПЫЛЕНИЕ -- ГРАНУЛЯЦИЯ -- МЕТАЛЛЫ -- СПЛАВЫ -- КОНТРОЛЬ -- ПЛОТНОСТЬ -- ТЕКУЧЕСТЬ -- ФОРМОВАНИЕ -- межведомственные сборники -- СПЕКАНИЕ -- ПОРИСТЫЕ -- ЭЛЕКТРОТЕХНИЧЕСКИЕ -- КОНСТРУКЦИОННЫЕ -- КОМПОЗИЦИОННЫЕ -- МАТЕРИАЛЫ -- ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫЕ -- ТВЕРДЫЕ -- ТЕХНИКА БЕЗОПАСНОСТИ Экземпляры всего: 1 кнхр (1) Свободных экз. нет |
Р 24 Распыление под действием бомбардировки частицами [Текст] / [Бериш Р., Виттмак К., Легрейд Н. и др.] ; под ред. Р. Бериша, К. Виттмака ; пер. с англ. Л. Л. Балашовой и др. ; под ред. В. А. Молчанова. - М. : Мир, 1998 - . Вып. 3 : Характеристики распыленных частиц, применения в технике. - 551 c. - (Проблемы прикладной физики). - ISBN 5-03-003118-9 : 15.00:143.80 р.
Кл.слова (ненормированные): Распыление (физика) -- Бомбардировка частицами (физика) -- Физика твердого тела -- Распыление (техника) Доп.точки доступа: Хофер, Вольфганг Бериш, Райнер Виттмак, К. Легрейд, Н. Молчанов, В. А. \ред.\ Экземпляры всего: 1 кнхр (1) Свободны: кнхр (1) |
Т 38 Технология микросхем и микропроцессоров: исследование техпроцесса нанесения пленок методом магнетронного распыления [Текст] : Метод. указания к выполнению лаб. работы для студентов спец. 200800, 220500 / [сост.: М. А. Одинцов, Н. И. Сушенцов, В. Е. Филимонов и др.]. - Йошкар-Ола : МарГТУ, 1995. - 26 c. - 1.54 р.
Рубрики: МарГТУ--Издания Кл.слова (ненормированные): Тонкие пленки -- Магнетронное распыление -- МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ -- ЛАБОРАТОРНЫЕ РАБОТЫ Доп.точки доступа: Сушенцов, Н. И. \сост.\ Филимонов, В. Е. \сост.\ Кудрявцев, Т. Л. \сост.\ Бахтин, А. Г. \сост.\ Одинцов, Михаил Александрович \сост.\ Экземпляры всего: 1 кнхр (1) Свободны: кнхр (1) |