Главная Упрощенный режим Описание
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


Книги- результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>A=Берлин, Е. В.$<.>)
Общее количество найденных документов : 3
Показаны документы с 1 по 3
1.
537.5
Б 49


    Берлин, Е. В.
    Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения [Электронный ресурс] / Е. В. Берлин, В. Ю. Григорьев, Л. А. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 : Б. ц.
УДК
ББК 22.333

Кл.слова (ненормированные):
эбс лань
Аннотация: Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (1011-1012 см-3), минимальный разброс ионов по энергиям (Aei < 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10-2
Перейти к внешнему ресурсу ЭБС Лань. Доступ до 31.08.2024

Доп.точки доступа:
Григорьев, В. Ю.
Сейдман, Л. А.


Найти похожие

2.


    Берлин, Е. В.
    Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением [Электронный ресурс] : справочное пособие / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2014. - 256 с. - ISBN 978-5-94836-369-1 : Б. ц.

Кл.слова (ненормированные):
эбс лань
Аннотация: Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Перейти к внешнему ресурсу ЭБС Лань. Доступ до 31.08.2024

Доп.точки доступа:
Сейдман, Л. А.


Найти похожие

3.
621.78
Б 49


    Берлин, Е. В.
    Плазменная химико-термическая обработка поверхности стальных деталей [Электронный ресурс] / Е. В. Берлин, Н. Н. Коваль, Л. А. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2012. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-328-8 : Б. ц.
УДК
ББК 34.65

Кл.слова (ненормированные):
эбс лань -- эбс лань -- эбс лань -- эбс лань -- эбс лань -- эбс лань
Аннотация: Книга представляет собой подробное справочное руководство по основам плазменной химико-термической обработки поверхности стальных деталей. В ней обобщены сведения о современном развитии этих технологических процессов, теоретические основы и методы их проведения. Детально проанализированы виды оборудования и принципы его конструирования для достижения высокой производительности, воспроизводимости и однородности обработки. Описаны варианты плазменной химико-термической обработки, отличающиеся видом элемента, насыщающего приповерхностные слои детали. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием и разработкой процессов упрочнения стальных деталей, используемых в устройствах различного назначения, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования для химико-термической обработки. Она также будет полезна в качестве учебного пособия студентам старших курсов и аспирантам соответствующих специализаций.
Перейти к внешнему ресурсу ЭБС Лань. Доступ до 31.08.2024

Доп.точки доступа:
Коваль, Н. Н.
Сейдман, Л. А.


Найти похожие

 
Статистика
за 15.06.2024
Число запросов 14290
Число посетителей 227
Число заказов 0
© 2006-2022 Поволжский государственный технологический университет, ФГБОУ ВО «ПГТУ».