Вид документа : Статья из сборника (том многотомника) Шифр издания : Ч42/М 74 Автор(ы) : Ефимов А. С. Заглавие : Влияние времени экспонирования на качество рисунка при фотолитографии Место публикации : Мой первый шаг в науку: материалы IV Поволжского научно- образовательного форума школьников (Йошкар-Ола, 20 февраля 2016 г.) : в 3 ч./ М-во образования и науки РФ, М-во образования и науки РМЭ, ФГБОУ ВО "Поволж. гос. технол. ун-т" ; [редкол.: Иванов В. А. и др.]. - Йошкар-Ола: ПГТУ, 2016. - Ч. 1: Фундаментальные науки. Информатика. Техника. - С. 135-136: 1 табл. - (Искусственный интеллект, наноэлектроника, мобильная связь, цифровое телевидение- технологии будущего). - кнхр ББК : Ч42 Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): труды пгту--микроэлектроника--фотолитография--рисунки--пленки Доп.точки доступа: Шарова, М. В. \науч. рук.\ Мороз, А. В. \науч. рук.\ |