Информационно-библиотечный центр Поволжского государственного технологического университета

Главная

Упрощенный режим

Описание

Базы данных

Книги- результаты поиска

Вид поиска

Книги

Статьи

Полные тексты изданий ПГТУ

Периодика

Авторефераты и диссертации

Область поиска

Найдено в других БД:

Статьи (1)

Формат представления найденных документов:
полный	информационный	краткий

Поисковый запрос: (<.>U=537.5<.>)

Общее количество найденных документов : 1

537.5
Б 49

Берлин, Е. В.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения [Электронный ресурс] / Е. В. Берлин, В. Ю. Григорьев, Л. А. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 : Б. ц.

УДК

537.5

ББК 22.333

Кл.слова (ненормированные):
эбс лань
Аннотация: Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (1011-1012 см-3), минимальный разброс ионов по энергиям (Aei < 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10-2
Перейти к внешнему ресурсу ЭБС Лань. Доступ до 31.08.2024

Доп.точки доступа:
Григорьев, В. Ю.
Сейдман, Л. А.

Найти похожие

Тематический навигатор

Статистика за 02.06.2024
Число запросов	45977
Число посетителей	1200
Число заказов	0